「后印刷」——第四届CAA版画三年展
开展时间:2025-10-17
结束时间:2025-12-16
策展人:于洪、李昶、韩沁、渠敬东、吴兴明
主办单位:浙江省文学艺术界联合会、中国美术学院
协办单位:北京大学赛克勒考古与艺术博物馆、哥伦比亚大学勒罗伊·尼曼版画中心(美国)、环球限量艺术版画(美国)、石路版画工作室(爱尔兰)、GG版画工作室(瑞典)、凯特·麦加里画廊(英国)、久保田真帆画廊(日本)
学术主持:许江、余旭红
承办单位:中国美术学院美术馆、中国美术学院绘画艺术学院、浙江省美术家协会、浙江省版画家协会
前 言
以“后印刷”为核心议题的CAA版画展览,是2015年在时任中国美术学院院长许江教授的倡导和指导下,由中国美术学院版画系团队具体执行的一个国际性版画届展项目。首届展览借第九届“IMPACT国际版画会议”(IMPACT在英文语境中寓含“国际的”、“跨学科的”、“版画”、“艺术家”、“观念”与“技术”等)在中国美术学院召开之际与会议同期开幕并产生了广泛的国际影响。到今天,已经过去了整整十年的时间。
本届“CAA版画三年展”,以“后印刷”为持续议题,依循“传统溯源、思维转向、媒介重构和在地再造”的逻辑线索,将展览划分为四个板块。
在《古典与浪漫——现代主义的先声》板块,展示了17世纪法国艺术家克劳德·洛兰(Claude Lorrain)以铜版原版印制的《真实之书》与18-19世纪英国艺术家威廉·透纳(J. M. W. Turner)的铜版画原作。从洛兰的“理想风景”到透纳的“情感风景”,不仅是视觉再现观的一种转折,也体现了从巴洛克理想风景的“可复制”样式到浪漫主义公共图像体系的一种转变。洛兰的《真实之书》将“作者性”嵌入复制过程,透纳的铜版画则进一步使“复制本身”成为艺术创作。这种“复制即创造”的观念,启发了后来的摄影、版画原作运动乃至现代艺术的“多重原作”概念,印象派、象征主义乃至20世纪的抽象艺术,都在这一理论遗产中探寻着各自的自由。
在《版画作为一种史观》板块,我们以美国环球限量艺术版画(ULAE)与哥伦比亚大学勒罗伊·尼曼版画中心(LNCP)的藏品为主体,展示20世纪后半叶以来的29位西方现当代艺术家在版画领域的实验与思想成果,包括了罗伯特·劳森伯格(Robert Rauschenberg)、查克·克洛斯(Chuck Close)、奇奇·史密斯(Kiki Smith)和萨拉·斯茨(Sarah Sze)等重要艺术家的作品。这个时期以来,随着丝网印刷、拼贴、转印与摄影的介入,版画“印刷”不断超越再现的范畴,并从“艺术的再生产”转化为了思想与社会的一种隐喻。通过现实介入、媒介反思和图像逻辑重构等手段,版画成为艺术家认识世界与自我反思的一种方式,并不断触发有关“技术”与“艺术”的哲学思考——一种以“印刷”为方法论的历史观。
在《多维·介变》板块,策展人以媒介考古学为视角,集合了来自英国、德国、爱尔兰、瑞典和日本的12位艺术家与一个艺术小组的13件(组)作品,试图追溯20世纪以来印刷技术对于艺术语言和观看机制的不断刺激及其融合——从立体主义的拼贴到观念艺术中的转印和邮寄实践,从工业性复制到数字化模拟,印刷的“可转移性”不断扩展为一种文化现象。在这里,版画不再被局限于视觉的范畴,而是延伸到了声波、气味、编码等非视觉的感知维度。在信息爆炸与视觉碎片的时代,该板块尝试以跨媒介的路径回返“印刷”之根本:一条作为时间与记忆、实体与转译之间的生成通道,以重建感知的秩序与意义。
在《此在的印刷》板块,我们重点择取中国艺术家的当代作品,展示其在被数据与算法深度塑形的视觉生态中,以“印刷”为思考与转义的工具,重新抵达身体经验、地理空间与社会关系的现场。在工业文明与自然遗迹之间,艺术家或坚守传统版画语言的经典,或以“版画思维”为原点,勉力拓展和建构新的艺术伦理与美学秩序。在这里,“印刷”不仅是技术的一种手段,也是思考艺术与存在的一个载体,更是关于生成、再造与连接的一场行动——它贯穿于创作的过程,也延伸至观者的经验。在当下这个以AI为驱动的技术加速时代,他们以全球化的视野,思考当“印刷”由物质表层沁至数字基因,或者说:当复制不再成为技术的结果而是观念的前提之时,当代版画如何成为一种历史痕迹、媒介逻辑以及知性结构的个体感知与艺术表达的方式。
本届展览共汇集了91位艺术家(42位中国艺术家、49位境外艺术家)的平面版画、3D打印、影像和装置作品。这些作品,以历史为维度,或侧重于形式,或致力于观念,不断超越传统版画的既有态势,进而从“印刷”这一版画的本源之处出发,在当下“后印刷”的社会和思想环境之中,将版画的实践视作为一条跨越物质边界、重构图像政治与人类知觉方式的生成逻辑。面对“复制与原创”、“虚拟与真实”、“技术与存在”等问题,我们试图通过展览集合的作品,呈现“印刷”这一技术媒介的传统、当下及其未来的可能形态,思考版画作为艺术和生活的一种方式,其既有与应有的位置。